Photolithography معمولاً برای تولید تراشه های کامپیوتریاستفاده می شود. هنگام تولید تراشه های کامپیوتری، مواد زیرلایه یک ویفر پوشیده شده از سیلیکون مقاوم است. این فرآیند به صدها تراشه اجازه می دهد تا به طور همزمان روی یک ویفر سیلیکونی ساخته شوند.
فوتولیتوگرافی چگونه انجام می شود؟
Photolithography از سه مرحله فرآیند اساسی برای انتقال یک الگو از ماسک به ویفر استفاده می کند: پوشش، توسعه، در معرض دید. این الگو طی فرآیند بعدی به لایه سطحی ویفر منتقل می شود. در برخی موارد، الگوی مقاومت می‌تواند برای تعریف الگوی یک لایه نازک رسوب‌شده نیز استفاده شود.
چرا به آن فوتولیتوگرافی می گویند؟
لیتوگرافی نیمه هادی (Photolithography) - فرایند اساسی . ساخت مدار مجتمع (IC) مستلزم انواع فرآیندهای فیزیکی و شیمیایی است که بر روی یک زیرلایه نیمه هادی (مثلاً سیلیکون) انجام شود. … کلمه لیتوگرافی از یونانی lithos به معنای سنگ و graphia به معنای نوشتن گرفته شده است.
چرا لیتوگرافی مهم است؟
لیتوگرافی
فرآیند انتقال الگوهای اشکال هندسی در یک ماسک به لایه نازکی از مواد حساس به تشعشع (به نام مقاومت) است که سطح ویفر نیمه هادی را می پوشاند. شکل 5.1 به طور شماتیک فرآیند لیتوگرافی بکار رفته در ساخت IC را نشان می دهد.
پرکاربردترین روش در روش های لیتوگرافی کدام است؟
نوریلیتوگرافییک تکنیک مبتنی بر فوتون است که از پرتاب کردن یک تصویر به یک امولسیون حساس به نور (مقاومت نوری) پوشیده شده روی بستری مانند ویفر سیلیکونی تشکیل شده است. این پرکاربردترین فرآیند لیتوگرافی در تولید حجم بالا نانو الکترونیک توسط صنعت نیمه هادی است.
